PVD-/PECVD-Anlage (Sputter)

Detailaufnahme einer Sputterkathode
  • Substratgröße Ø 200 mm
  • Schichtabscheidung im DC oder RF Kathodenbetrieb
  • Verstellbare Kathoden in konfokaler Anordnung
  • 2 RF Stromversorgungen (13,56 MHz) für die Kathoden mit Autotuning
  • 2 DC Stromversorgungen für die Kathoden 2000 W mit Pulsoption
  • 1 BIAS-Stromversorgung 3 KW mit Pulsbetrieb
  • Substrat-Biasbetrieb (Ätzbetrieb) mit DC und gepulstem DC
  • geregelte Substratheizung
  • Drehschieber-Vorpumpe 2-stufig
  • Turbomolekularpumpe
  • Verschiedene Druckmessgeräte (kapazitive, Pirani-, Penning-Messgeräte)

 

HiPIMS-Einheit (Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern):

  • Umax : 1.000 V DC oder gepulst
  • Imax: 50 A DC, 100 A gepulst
  • Arc-Level: 0 - 100A
  • fmax(MF): 100 kHz
  • fmax(HIPIMS): 2 kHz
  • Pulsmodi: DC, UP+, UP-, bipolar
  • 20 Pulsmuster progammierbar
  • mittlere Pulsstrommessung und Spitzenstromerfassung (pos/neg Kanal)

Zentrale Gasversorgung

  • Feuergeschützte Gasschränke für 6 Gasflaschen mit Absaugung
  • Einzelne Gase N2, O2, Ar, H2 separat abschaltbar
  • Hochreine Absperrventile, Entspannungsstationen und Gasleitungen aus Edelstahl
  • Zentrale Gaswarnanlage für H2

Schichtdickenmessgerät DEKTAK DXT SURFACE PROFILE MEASURING SYSTEM

  • 8inch wafer Vakuum Chuck, motorisiert
  • Reproduzierbarkeit der Stufenhöhenmessung besser als 5Ã…
  • 1σ Standardabweichung bei 0,1 Âµm Stufenhöhe
  • Stitching für bis zu 200mm lange scans
  • 3D mapping Datenaufnahme und Auswertung
  • Pneumatischer Schwingungsisolationstisch
Detailaufnahme des Detak Oberflächenprofilometers

Gefahrstoffschränke mit Absaugung

Reinraumbereich

  • ca. 13 m²
  • Reinraumklasse 100 nach US Fed. 209 E bzw. ISO 5 nach der DIN ISO 14644-1

Arbeitsplätze

  • 16 Labor-Arbeitsplätze für Studenten
  • 2 Büros (4 Arbeitsplätze) für Mitarbeiter oder Master-Studenten

 

 

 

Ausschnitt aus dem Gasmischsystem des Sputters